Благодарность журнала "Plasma Chemistry and Plasma Processing"

16.04.2021

Изображение материала В майском номере журнала "Plasma Chemistry and Plasma Processing" выражается поименная ]]>благодарность]]> ученым, внесшим в 2020 году существенный вклад в рецензирование статей журнала.

«Редакторы и авторы "Plasma Chemistry and Plasma Processing" хотели бы поблагодарить ученых, которые поделились своим опытом и временем в качестве рецензентов в течение 2020 года. Их компетентные комментарии и тщательный анализ помогли повысить качество публикуемых статей. Хотя рецензенты остаются анонимными в соответствии с редакционной политикой, их весомый вклад не остается незамеченным. Мы высоко ценим поддержку ученых, которые рецензировали статьи для нашего журнала».

В числе ученых, которым журнал выразил благодарность, двое сотрудников нашего университета: главный научный сотрудник кафедры ТПиМЭТ Рыбкин Владимир Владимирович и доцент кафедры ТПиМЭТ Шутов Дмитрий Александрович.

Соб. инф.